エキシマ照射装置(波長:172nm)|エキシマ照射装置|製品紹介

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エキシマ照射装置(主波長:172nm)

エキシマランプには、希ガスを封入したランプ内で発生する放電プラズマ(誘電体バリア放電)により発生する光(エキシマ光)を利用したものです。

主な波長としては126nm(Ar2)、146nm(Kr2)、172nm(Xe2)、222nm(KrCl)、308nm(XeCl)があります。

弊社では、Xe2を利用した172nmを主波長としたランプユニットを採用し、表面改質、親水化処理処理(濡れ性向上)用途の装置をご提供しています。

エキシマの特徴

  • 放電を直接ワークに当てるコロナ放電、プラズマ方式と異なり、エキシマ照射は、真空紫外線の照射のみの為、ワークへのダメージがほとんどありません。
  • 電極のスパッタによる粉塵の発生があるコロナ放電、プラズマ方式と異なり、クリーンな処理が可能です。
  • 光を利用するエキシマ照射は処理ムラがありません。
  • 瞬時点灯、消灯が可能。
KJ/mol グラフ

エキシマランプの特徴

  • RF(高周波)放電のランプを採用している為、ちらつきの少ない安定した出力。
  • 平面型ランプの採用で、大面積で均一な照射を実現。

 

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