R&D用スキャン式エキシマ照射装置|エキシマ照射装置|製品紹介

img_sub03

R&D用スキャン式エキシマ照射装置

172nmを主波長としたエキシマ照射ユニットとスキャン用ステージ、オゾン分解装置を一体化し、100Vの電源のみで、簡単にかつ安全にエキシマ表面改質の実験が出来る装置です。

【特徴】

  • スキャン用ステージにより従来より大面積の処理が可能。
  • オゾン分解装置一体型で、排気設備などが不要。
レンタル可
R&D用スキャン式エキシマ照射装置
型式ASM86 Excimer
発光波長172nm
処理対象物W86mm×D120mm以下、厚み40mm以下
照射距離調整調整用ラボジャッキ付(照射距離0~40mmまで可変)
外形寸法本体:(W)432mm×(D)510mm×(H)520.5mm (突起物を除く)
概算重量約25kg (本体 20kg、照射ユニット 4.8kg)
本体材質SUS304/A5052P/SPCC
照射ユニット
ランプメーカー浜松ホトニクス株式会社製
型式FLAT EXCIMER EX-86U L13129
照射強度65mW/c㎡
照射面サイズ86mm×40mm
エキシマ有効照射距離 5mm以内推奨
冷却方式強制空冷
搬送部
テーブル材質A5052P(位置合せ用スリット付)
遮光カバーPVC(UVカットイエロー)
処理速度0.1mm/sec~120mm/sec
処理可動範囲240mm
その他
タッチパネル4インチ モノクロタッチパネル
レシピ数20レシピ(処理速度、照射時間設定可能)
モニタ機能現在速度・現在位置・残り時間 表示機能付き
排オゾン設備オゾン触媒内蔵(ファン強制排気)
ユーティリティAC100V 50/60Hz 400VA
よくあるご質問はこちら

関連記事

エキシマ照射装置(波長:172nm)|エキシマ照射装置|製品紹介

エキシマ照射装置(波長:172nm)|エキシマ照射装置|製品紹介の画像

エキシマ照射装置(主波長:172nm)

RF放電のランプを採用している為、ちらつきの少ない安定した出力。 平面型ランプの採用で、大面積で均一な照射を実現。

エキシマ照射装置 カスタマイズ事例|エキシマ照射装置|製品紹介

エキシマ照射装置 カスタマイズ事例|エキシマ照射装置|製品紹介の画像

エキシマ照射装置 カスタマイズ事例

R&D用スキャン式エキシマ照射装置(400mm)照射幅400mmのエキシマ照射ユニット用向けスキャン式照射装置です。 最大ワークサイズは400×800mm。型式ASM400 E

エキシマ照射改質データ|エキシマ照射装置|製品紹介

エキシマ照射改質データ|エキシマ照射装置|製品紹介の画像

エキシマ照射改質データ

【エキシマ照射時間に対する接触角の変化(材質別)】ポリカーボネートサイズ :20mm角5ポイント各点測定エキシマ照射装置 :ASM86 Excimer照射距