エキシマ照射装置|製品紹介

エキシマ照射装置

エキシマ照射装置(波長:172nm)|エキシマ照射装置|製品紹介

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エキシマ照射装置(主波長:172nm)

RF放電のランプを採用している為、ちらつきの少ない安定した出力。 平面型ランプの採用で、大面積で均一な照射を実現。

R&D用スキャン式エキシマ照射装置|エキシマ照射装置|製品紹介

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R&D用スキャン式エキシマ照射装置

172nmを主波長としたエキシマ照射ユニットとスキャン用ステージ、オゾン分解装置を一体化し、100Vの電源のみで、簡単にかつ安全にエキシマ表面改質の実験が出来る装置です。【特徴】スキャン用

エキシマ照射装置 カスタマイズ事例|エキシマ照射装置|製品紹介

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エキシマ照射装置 カスタマイズ事例

R&D用スキャン式エキシマ照射装置(400mm)照射幅400mmのエキシマ照射ユニット用向けスキャン式照射装置です。 最大ワークサイズは400×800mm。型式ASM400 E

エキシマ照射改質データ|エキシマ照射装置|製品紹介

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エキシマ照射改質データ

【エキシマ照射時間に対する接触角の変化(材質別)】ポリカーボネートサイズ :20mm角5ポイント各点測定エキシマ照射装置 :ASM86 Excimer照射距